Shizuoka University REpository  title image 
morning
day
evening
night
shizuppy
 

SURE: Shizuoka University REpository >
11. 創造科学技術大学院 = Graduate School of Science and Technology >
静岡大学大学院電子科学研究科研究報告 (1980-2008) >
2003 24 >

このアイテムの引用には次の識別子を使用してください: http://hdl.handle.net/10297/1446
Bookmark and Share

このアイテムのファイル:

ファイル 記述 サイズフォーマット
24-0076.pdf312.84 kBAdobe PDFサムネイル
見る/開く
24-0076-132.pdf58.53 kBAdobe PDFサムネイル
見る/開く

タイトル: プラズマ励起化学気相堆積法によるTiOx膜の堆積過程および薄膜評価に関する研究
その他のタイトル: Study on the TiOx thin film deposition process and characterization by plasma enhanced chemical vapor deposition method
著者: 中村, 正俊
掲載誌名: 静岡大学大学院電子科学研究科研究報告
出版者: 静岡大学大学院電子科学研究科
巻: 24
開始ページ: 76
終了ページ: 79
出版日付: 2003-03-28
NDC: 549
注記: 博士学位論文の要旨 学位記番号:工博甲第220号
報告番号: 甲第278号
ISSN: 03885070 OPAC
NII書誌ID: AN00103168 OPAC ciniib
NDL書誌ID: 000000413656 OPAC  ndlsearch
バージョン: publisher
出現コレクション:2003 24
博士学位論文の要旨

Google™ Scholar: Cited By - Related - Other Copies

Others By: 中村, 正俊 (ナカムラ, マサトシ) (Nakamura, Masatoshi)

本リポジトリに登録されているコンテンツの著作権は,執筆者,出版社、学協会などが有します。著作権者はコンテンツにより異なります。
本リポジトリに登録されているコンテンツの利用については,著作権法に規定されている私的使用や引用などの範囲内で行ってください。
著作権に規定されている私的使用や引用などの範囲を超える利用を行う場合には,著作権者の許諾を得てください。ただし,著作権者から著作権等管理事業者(学術著作権協会,日本著作出版権管理システムなど)に権利委託されているコンテンツの利用手続については,各著作権等管理事業者に確認してください。

 

Powered by DSpace Software Copyright © 2002-2007 MIT and Hewlett-Packard - ご意見をお寄せください